怎麼做到的？
不是，陸隱的腦子是怎麼長的？
現在的年輕人，都這麼可怕嗎？
曾泉感覺人都麻了，被驚得說不出話，他現在算是明白，趙光譽這個老家夥，為什麼一定要讓他來監工實驗室了。
不過為什麼就不能提前透露一點，讓他一直蒙在鼓裡，是怕他亂說？
他是那種大嘴巴的人嗎？
給幾個孩子都簽了保密協議，也都透露了不少內幕，就是不跟他說，是故意看他出醜的吧！
真是可惡！
曾泉在心裡把趙光譽罵了好幾輪，但還是有些開心，說到底老趙頭對他還是有點子感情的，居然這這等美差都給自己了。
轉頭環顧一周，發現京大的李教授和他的研究生們今天都沒有來，看來這事不僅他一人被瞞著。
這幾個家夥還不知道他們錯過了什麼吧？
這樣一想，心裡更加開心了。
辦公室。
陸隱將門反鎖後，躺在椅子上，讓意識徹底沉入了腦海。
“小a，把關於1n光刻機的資料全部調出來。”陸隱說道。
好的
腦海中，隨著小a聲音的出現，一遝厚厚的資料出現在腦中的光暈裡。
陸隱手指一點，資料緩緩攤開，漂浮在眼前。
首先就是光刻機的總體結構，大概分為照光係統，掩模台係統，自動對準係統，調平調焦對準係統，框架減震係統……等。
而光刻機的整個結構中，最難的地方在於高精度的光源和光刻膠、鏡頭、對準技術等。
光刻機的核心難點在於光源技術，特彆是極紫外線光刻機的光源技術。
在極紫外線技術出現之前，深紫外線光刻機是主流，它們使用193納米波長的短波紫外線。
而極紫外線光刻機則使用135納米的極紫外線，這要求極高的精度和穩定性。
另外，光刻膠是光刻過程中的關鍵材料，其性質和特性對芯片製造有重大影響。
光刻膠的厚度、硬度、粘度等屬性都需要精確控製，以實現高精度的圖案轉移。
鏡頭技術也很重要，光刻機的鏡頭需要極高的純度和精度，以確保圖案的精確投影，這涉及到光學誤差的控製，要求係統具有極高的精度。
除此之外，還有對準技術。
在光刻過程中，將掩膜上的圖案精準對位到矽片上是關鍵步驟，這需要高精度的光學、機械和計算機控製技術。
此外，光刻機對工作環境要求也是極為嚴格，光刻機的工作環境必須絕對無塵，以確保芯片生產的精度和質量，同時，工作台必須具有高精度，以確保多次曝光和對準時的高度準確性。
其中的技術成本和難度也是極大的，光是技術領域就涉及光學、機械、電子、計算機等多個領域。
用到的材料和設備成本也是極為高昂，且製造周期極長，總的來說，這是一項比製作激光武器還要精細且費精力的研發。
但，1n光刻機的研發，勢在必行！
這是華國想要解除西方列國科技封鎖的重要一步，無論失敗多少次，都必須要做到！
一個小時後，陸隱拿著厚厚一遝資料打開了辦公室的門。