經過半個多月的測試，三微米工藝良品率百分之十七點二，六微米工藝良品率百分之五十七點六，十微米良品率達到驚人的百分之八十七點八。
雖然不足百分之九十的良品率，在後世看來並不算高，但就眼下來說，已經可以躋身國際先進水平了。
“厲害呀~”曲卓聽完張總工興致勃勃的講解，發出了由衷的感慨。
事實再次證明，起碼現階段，我們的設計能力是絕對沒有問題的。
設計組並沒有複刻曲卓的圖紙，而是對n100的核心組件稍加修改和調整，重新設計了光刻機的整體結構。從原本的櫃式一體設計，變成了現在的臥式分體布局。
從結果上看，加工效率比原本設計要略低一些，功耗也略大了一些。但良品率明顯提高，耗材損耗也有所下降。綜合性能絕對超越了n100多少，而在於有這台設備在手，我們就有了突破封鎖的“武器”。
上麵的計劃是，下個月對外公布這款達到世界一流水平的“自研”光刻機。
等十月份，同型號第二台設備在滬市五廠投入使用。十二月底至明年一月，第三台設備在871廠投入使用。
如此一來，外界就能得出判斷，我們大約三到四個月，就能加工出一套光刻機使用的核心部件。
這說明什麼？
說明我們已經掌握了，相關的一係列精密加工，以及配套的光源、數控等關鍵技術。
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並且，有能力穩定的，符合標準的核心部件。
即便從交付時間上看，生產效率是低下的。與已經掌握關鍵技術的發達國家，完全沒有可比性。
但是，我們畢竟突破了。剩下的不過是慢慢摸索著提高罷了。
西方對付我們的套路，其實幾十年都沒有變過。
無非是咱們沒有的，他們就死死的壓著我們。
咱們一旦露出突破的苗頭了，他們以相對的低價，斬斷我們繼續自研和自產的動力。
如果我們已經實現了自產和自研，他們就會用工藝成熟，配套產業鏈完整所帶來的成本優勢，衝毀我們的自產能力。
投影式光刻機從74年至今，技術原理早就不是什麼秘密了。之前我們一直沒有，就是卡在了核心光學和機械部件的加工技術上。
所以，掌握技術的歐美和小日子拚命卡著我們。
隨著我們“自研自產”的投影式光刻機投入使用，在他們眼中繼續封鎖，已經沒有了意義。
他們會怎麼做？
答案顯而易見，不但會解開相關部分的出口管製，還不敢獅子大開口！
原本這些事，是沒必要告訴曲卓的。
但能不能達成目標的關鍵點，是能不能捂住秘密。
曲卓不在的這段時間，所有知情和能接觸到相關信息的人，都被安全部門再次嚴肅的強調了一遍保密紀律。
作為唯一的漏網之魚，某人剛下火車就被拎到878。
親眼看到了他做出關鍵貢獻的771後，老黎同誌罕見的嚴肅起來，提醒他一定要管好嘴巴……
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